Compartir
Advances in Research and Development: Modeling of Film Deposition for Microelectronic Applications: Vol. 23 (Thin Films) (en Inglés)
Maurice H. Francombe (Autor)
·
Academic Press
· Tapa Dura
Advances in Research and Development: Modeling of Film Deposition for Microelectronic Applications: Vol. 23 (Thin Films) (en Inglés) - Maurice H. Francombe
$ 402.150
$ 502.687
Ahorras: $ 100.537
Elige la lista en la que quieres agregar tu producto o crea una nueva lista
✓ Producto agregado correctamente a la lista de deseos.
Ir a Mis Listas
Origen: Estados Unidos
(Costos de importación incluídos en el precio)
Se enviará desde nuestra bodega entre el
Viernes 14 de Junio y el
Viernes 28 de Junio.
Lo recibirás en cualquier lugar de Argentina entre 1 y 3 días hábiles luego del envío.
Reseña del libro "Advances in Research and Development: Modeling of Film Deposition for Microelectronic Applications: Vol. 23 (Thin Films) (en Inglés)"
Significant progress has occurred during the last few years in device technologies and these are surveyed in this new volume. Included are Si/(Si-Ge) heterojunctions for high-speed integrated circuits, Schottky-barrier arrays in Si and Si-Ge alloys for infrared imaging, III-V quantum-well detector structures operated in the heterodyne mode for high-data-rate communications, and III-V heterostructures and quantum-wells for infrared emissions.
- 0% (0)
- 0% (0)
- 0% (0)
- 0% (0)
- 0% (0)
Todos los libros de nuestro catálogo son Originales.
El libro está escrito en Inglés.
La encuadernación de esta edición es Tapa Dura.
✓ Producto agregado correctamente al carro, Ir a Pagar.
