Name: atomic layer deposition (en Inglés)
Price: 344473.00 ARS
Availability: InStock
Author: Kääriäinen, Tommi ; Cameron, David ; Kääriäinen, Marja-Leena
ISBN: 9781118062777

portada atomic layer deposition (en Inglés)

Formato

Libro Físico

Autor

David Cameron

Tommi Kääriäinen

Marja-Leena Kääriäinen

Editorial

Wiley-Scrivener

Idioma

Inglés

Encuadernación

Tapa Dura

Dimensiones

23.6 x 15.5 x 2.3 cm

Peso

0.57 kg.

ISBN

1118062779

ISBN13

9781118062777

N° edición

0002

Categorías

Nanotecnología
Ingeniería aplicada de revestimientos de superficies, capas y películas

atomic layer deposition (en Inglés)

David Cameron (Autor) · Tommi Kääriäinen (Autor) · Marja-Leena Kääriäinen (Autor) · Wiley-Scrivener · Tapa Dura

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Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerful, and sometimes preferred, deposition technology. The new edition of this groundbreaking monograph is the first text to review the subject of ALD comprehensively from a practical perspective. It covers ALD's application to microelectronics (MEMS) and nanotechnology; many important new and emerging applications; thermal processes for ALD growth of nanometer thick films of semiconductors, oxides, metals and nitrides; and the formation of organic and hybrid materials.

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